真空熱電偶饋通是一種常用于真空體系中做為溫度測量的儀器，由于其特殊的材料以及結構設計，使得其在真空系統中能夠承受高溫，甚至可達1700°C，這樣的高溫耐受度讓真空熱電偶饋通在半導體工業中扮演著重要的角色。

在半導體工業中，真空熱電偶饋通常被應用在晶圓生產過程中的熱源溫度測量中，晶圓加熱的過程中需要保證恒定的溫度，真空熱電偶饋通可以準確地測量出溫度的變化，讓加熱器加熱的溫度可以地控制在設定值范圍內。

除了晶圓生產過程中的熱源溫度測量，真空熱電偶饋通還可以被用于真空管的溫度測量，這些真空管是半導體工業生產中不可或缺的部分，而真空熱電偶饋通在真空管的生產過程中可以準確地測量溫度的變化，保證真空管的質量。

此外，真空熱電偶饋通也被廣泛應用于半導體工業中的真空窯和高溫實驗室中，由于其在高溫環境下的穩定性和準確的溫度變化測量，使得其成為半導體工業中不可或缺的一部分。